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P純離子鍍膜機系列

P純離子鍍膜機系列

NDT鍍膜機

由多個高真空單靶磁控濺射組成工藝系統

NDT系列設備主要是由電源系統、真空系統、控制系統、磁控濺射鍍膜源系統組成??刂葡到y是由PLC程序控制的工控機。電源主要是控制電源和偏壓電源。每個磁控濺射鍍膜源靶由低電壓高電流的電弧源提供能量,電壓電流都可以調節。設備有12只陰極電弧離化源,能夠保證同時安裝3列純金屬或合金靶材。工件與腔體之間是負偏壓,其目的是提高入射粒子的速度、沉積速率,增加膜和基體表面的結合的牢固度。

系統由至高真空后充入工藝氣體,在陰極和陽極間加壓,兩極間即產生輝光放電。放電產生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,濺射原子在基片表面沉積成膜。磁控濺射濺射率高、基片溫升低、膜-基結合力好、裝置性能穩定、操作控制方便。


主要特點

1、 獨特的磁場設計,在真空條件下把碳氫氣體離化為碳等離子體,再利用離子引出裝置技術,能夠制成性能優越的超級類金剛石DLC薄膜;

2、 設備具備加熱、離子束濺射清洗和磁控濺射沉積金屬層的能力;

3、 腔室圓周壁安裝磁控濺射源、離子束清洗源和加熱器,底部布置高真空抽氣系統。頂部有旋轉基片架驅動系統和真空度測量系統 ;

4、設備采用全自動控制系統,能控制工藝溫度、膜層厚度,能對微孔內壁鍍膜;

5、行星轉架底座為公轉+自轉結構;

6、 突出安全性設計:設備中外露部分,包括真空腔室、抽氣系統、離子源背部等能觸摸到的表面,全部接地保護;內部帶電部分也有明顯警示標志。設備控制軟件設有自動保護功能。



技術優勢


1、純離子鍍膜技術的兩大創新和成熟的工藝相結合,使得膜層具備如下性能:大面積鍍膜、均勻性好;繞射性好、適用于復雜形狀曲面的鍍膜、可涂覆帶有槽、溝、孔,甚至是盲孔的工件;

2、工藝穩定、重復性好;粘附性好;高純度、無顆粒;摩擦系數小、防刮花、耐磨損;

3、化學穩定性好、適應惡劣環境、耐腐蝕;

4、適用于光學膜層;可以在導體、半導體和絕緣體基底上沉積;可以和純離子鍍膜,磁控濺射和離子束清洗等工藝配合等;

5、NDT技術備制的膜層厚度通常在5nm-15μm之間,可以廣泛應用在:3C消費電子、家電、紡織、閥門、半導體、模具、新能源、軍工航天、科研等行業;

6、NDT設備高沉積速率;

7、鍍膜的種類多樣化,膜層厚度均勻性良好。



設備參數

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