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P純離子鍍膜機系列

P純離子鍍膜機系列

IS磁控濺射鍍膜機

由離子束清洗(IONBEAM CLEANING)+磁控濺射(SPUTTER)組成工藝系統。

系列設備主要是(集)高能粒子束清洗技術(IONBEAM)和磁控濺射(SPUTTER)兩種技術融合一體,可以適應廣泛鍍膜靶材,無論是金屬還是介質、化合材料都可以利用濺射工藝進行鍍膜及成膜,使膜層附著力、致密度、重復度及顏色一致性好等特點??慑冎芓iN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、Cu、Au、金剛石膜(DLC)、裝飾膜等非金屬及其化合物的膜層和復合膜層。采用可編控制器PLC+觸摸屏HMI組合電氣控制系統,實現全自動控制。


主要特點


1、具備加熱、離子束濺射清洗和磁控濺射沉積金屬層的能力;

2、腔室圓周壁安裝磁控濺射源、離子束清洗源和加熱器,底部布置高真空抽氣系統。頂部有旋轉基片架驅動系統和真空度測量系統 ;

3、設備采用全自動控制系統,能控制工藝溫度、膜層厚度,能對微孔內壁鍍膜;

4、腔室內設置多路偏壓板,每路偏壓能夠獨立調節,自由控制通斷以及接地設計。偏壓由基片架轉軸引入腔室;

5、行星轉架底座為公轉+自轉結構,而偏壓板底座和基片(電路板)底座為公轉結構;

6、突出安全性設計:設備中外露部分,包括真空腔室、抽氣系統、離子源背部等能觸摸到的表面,全部接地保護;內部帶電部分也有明顯警示標志。設備控制軟件設有自動保護功能。


技術優勢

1、 離子束清洗源產生的高能Ar離子,清洗轟擊基底表面,可以提高膜層的粘附性;

2、 布氣系統,氣體流量均利用質量流量計分別進行定量控制;

3、 溫度監控采用熱偶絲方式,腔室壁設置加熱器,通過溫度傳感器進行加熱控制。真空室外壁設置水冷,能確保最高加熱溫度條件下控制外壁溫度不高于40攝氏度;

4、 設備鍍膜源的安裝法蘭采用合頁鉸鏈設計,換靶方便,離子源和加熱器維護操作簡單。所有的磁控濺射離子源、離子束清洗源的安裝法蘭采用相同尺寸,互換性強,工藝靈活性高;

5、 設備采用工控機+PLC控制方式,完全自動化界面控制,具備工藝配方自動運行能力。


設備參數


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